曝光制作流程

〈一〉 流程：

     磨板→貼膜→曝光→顯影

 一、磨板

   1、表面處理 除去銅表面氧化物及其它污染物。

   a. 硫酸槽配制 H2SO4 1-3％（V/V）。

   b. 酸洗不低于10S。

   2、 測試磨痕寬度 控制范圍10-15mm，磨痕超過15mm會出現(xiàn)橢圓孔或孔口邊沿?zé)o銅，一般控制10-12mm

      為宜。

   3、水磨試驗 每日測試水膜破裂時間≥15s，試驗表明，在相同條件下磨痕寬度與水膜破裂時間成正比。

   4、磨板控制 傳送速度1.2-2.5M/min，間隔1＂，水壓1.0-1.5bar，干燥溫度70-90℃。

 二、干膜房

 1、干膜房潔凈度10000級以上。

 2、溫度控制20-24°C，超出此溫度范圍容易引起菲林變形。

 3、濕度控制60-70％，超出此溫度范圍也容易引起菲林變形。

 4、工作者每次進(jìn)入干膜房必須穿著防塵服及防塵靴風(fēng)淋15-20s。

 三、貼膜

 1、貼膜參數(shù)控制

   a. 溫度100-120°C，精細(xì)線路控制115-120°C，一般線路控制105-110°C，粗線路控制100-105°C。

   b. 速度＜3M/min。

   c. 壓力30-60Psi，一般控制40Psi左右。

 2、注意事項

   a. 貼膜時注意板面溫度應(yīng)保持38-40°C，冷板貼膜會影響干膜與板面的粘接性。

   b. 貼裝前須檢查板面是否有雜物、板邊是否光滑等，若板邊毛刺過大會劃傷貼膜膠輥，影響使用壽命。

   c. 在氣壓不變情況下，溫度較高時可適當(dāng)加快傳送速度，較低時可適當(dāng)減慢傳送速度，否則會出現(xiàn)皺

      膜或貼膜不牢，圖形電鍍時易產(chǎn)生滲鍍。

   d. 切削干膜（手動貼膜機(jī)）時用力均勻，保持切邊整齊，否則顯影后出現(xiàn)菲林碎等缺陷。

   e. 貼膜后須冷卻至室溫后方可進(jìn)行曝光。

 四、曝光

 1、光能量

a.    光能量（曝光燈管5000W）上、下燈控制40-100毫焦/平方厘米，用下曬架測試上燈，上曬架測試

 下燈。

b.    曝光級數(shù)7-9級覆銅（Stoffer 21級曝光尺），一般控制8級左右，但此級數(shù)須顯影后才能反映出來，

   因此對顯影控制要求較嚴(yán)。

 2、真空度

     大于69CMHG,否則易產(chǎn)生虛光線細(xì)現(xiàn)象。

 3、趕氣

     趕氣須在真空度大于69CMHG以上且趕氣力度要均勻，否則會產(chǎn)生焊盤與孔位偏移，造成崩孔現(xiàn)象。

 4、曝光

     曝光時輕按快門，曝光停止后須立即取出板件，否則燈內(nèi)余光長時間曝光，造成顯影后出現(xiàn)板面余膠。

 五、顯影參數(shù)控制

 1、溫度30±2℃。

 2、Na2CO3濃度 1±0.2％

 3、噴淋壓力 1.5-2.0kg/cm2

 4、水洗壓力 1.5-2.0kg/cm2

 5、干燥溫度 45～55℃

 6、傳送速度 顯影點50±5%控制

 六、重氮片

 1、重氮片曝光

 5000W曝光燈管，曝光能量：21級曝光尺1～2格透明。

 2、重氮片顯影

 20%氨水、溫度控制48～65℃，顯影3-7次至線路呈深棕色為止。

 3、影響重氮片質(zhì)量因素及防止

   a. 線細(xì)

①由光反射及衍射造成；可用純黑色不反光平底板墊于重氮片下進(jìn)行曝光消除此現(xiàn)象。

②曝光能量過強(qiáng)；適當(dāng)降低曝光能量。

   b. 顯影后出現(xiàn)斑點（俗稱鬼影）曝光能量不足，適當(dāng)延長曝光時間。

   c. 顏色偏淡 由以下因素構(gòu)成

①溫度不夠；待調(diào)整溫度升至范圍值再顯影。

②氨水過期，濃度降低，更換氨水。

③顯影時間太短；重新顯影2-3遍。

④重氮片曝光后放置時間較長；線路部分已曝光，廢棄重做。

〈二〉常見的故障及排除方法:

    在使用干膜進(jìn)行圖像轉(zhuǎn)移時，由于干膜本身的缺陷或操作工藝不當(dāng)，可能會出現(xiàn)各種質(zhì)量 問題。下面列舉在生產(chǎn)過程中可能產(chǎn)生的故障，并分析原因，提出排除故障的方法。

1、干膜與覆銅箔板粘貼不牢

原 因

解決辦法

1)干膜儲存時間過久，抗蝕劑中溶劑揮發(fā)。

在低于27℃的環(huán)境中儲存干膜，儲存時間不宜超過有效期。

2)覆銅箔板清潔處理不良，有氧化層或油污等污物或微觀表面粗糙度不夠。

重新按要求處理板面并檢查是否有均勻水膜形成。

3)環(huán)境濕度太低。

保持環(huán)境濕度為60％RH左右。

4)貼膜溫度過低或傳送速度太快。

調(diào)整好貼膜溫度和傳送速度，連續(xù)貼膜最好把板子預(yù)熱。

2＞干膜與銅箔表面之間出現(xiàn)氣泡

原 因

解決辦法

1)貼膜溫度過高，抗蝕劑中的揮發(fā)成分急劇揮發(fā)，殘留在聚酯膜和覆銅箔板之間，形成鼓泡。

調(diào)整貼膜溫度至標(biāo)準(zhǔn)范圍內(nèi)。

2)熱壓輥表面不平有凹坑或劃傷。 

注意保護(hù)熱壓輥表面的平整，清潔熱壓輥時不要用堅硬、鋒利的工具去刮。

3)壓輥壓力太小。 

適當(dāng)增加兩壓輥問的壓力。

4)板面不平有劃痕或凹坑。

挑選板材并注意前面工序減少造成劃痕、凹坑的可能。

3＞干膜起皺

原 因

解決辦法

1)兩個熱壓輥軸向不平行，使干膜受壓不均勻。

調(diào)整兩個熱壓輥，使之軸向平行。

2)貼膜溫度太高。

調(diào)整貼膜溫度至正常范圍內(nèi)。 

3)貼膜前板子太熱。

適當(dāng)調(diào)低預(yù)熱溫度。

 4＞有余膠

原 因

解決辦法

1)干膜質(zhì)量差，貼膜過程中出現(xiàn)偶然熱聚合。

換用質(zhì)量好的干膜。 

2)干膜暴露在白光下造成部分聚合。

在黃光下進(jìn)行干膜操作。

3)曝光時間太長。 

縮短曝光時間。

4)照相底版暗區(qū)光密度不夠，造成紫外 光透過，部分聚合。

曝光前檢查照相底版，測量光密度。

5)曝光時照相底版與基板接觸不良造成虛光。

檢查抽真空系統(tǒng)及曝光框架。

6)顯影液溫度太低，顯影時間太短，噴淋壓力不夠或部分噴嘴堵塞。

調(diào)整顯影液溫度和顯影時的傳送速度，檢查顯影設(shè)備試顯影點確定參數(shù)。

7)顯影液中產(chǎn)生大量氣泡，降低了噴淋壓力。

在顯影液中加入消泡劑消除泡沫。

8)顯影液失效。

更換顯影液。

5＞顯影后干膜圖像模糊，抗蝕劑發(fā)暗發(fā)毛

原 因

解決辦法

1)照相底版明區(qū)光密度太大，使紫外光受阻。

曝光前檢查照相底版，測量光密度。

2)顯影液溫度過高或顯影時間太長。 

調(diào)整顯影液脫落及顯影時的傳送速度

6＞鍍層與基體結(jié)合不牢或圖像有缺陷

原 因

解決辦法

1)圖像上有修版液或污物。 

修版時戴細(xì)紗手套，并注意不要使修版液污染線路圖像

2)化學(xué)鍍銅前板面不清潔或粗化不夠。

加強(qiáng)化學(xué)鍍銅前板面的清潔處理和粗化

3)鍍銅前板面粗化不夠或粗化后清洗不干凈

改進(jìn)鍍銅前板面粗化和清洗

7＞鍍銅或鍍錫鉛有滲鍍

原 因

解決辦法

1）干膜性能不良，超過有效期使用。

盡量在有效內(nèi)便用干膜。

2）基板清洗不干凈或粗化表面不良,干膜粘附不牢。

加強(qiáng)板面處理。

3）曝光過頭抗蝕劑發(fā)脆。

用光密度尺校正曝光量或曝光時間。

4）曝光不足或顯影過頭造成抗蝕劑發(fā)毛，過緣起翹。

校正曝光量，調(diào)整顯影溫度和顯影速度。